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    集成電路用電子化學(xué)品制造關(guān)鍵技術(shù)通過鑒定

    發(fā)表時間:2025.04.27 關(guān)注: 92

    日前,北京化工大學(xué)等多家單位完成的“高端化學(xué)品及集成電路用電子化學(xué)品制造關(guān)鍵技術(shù)研究與應(yīng)用”項(xiàng)目,在北京通過了中國石油和化學(xué)工業(yè)聯(lián)合會(簡稱“中國石化聯(lián)”)組織的科技成果鑒定。記者了解到,北京化工大學(xué)教授李群生帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)針對國家戰(zhàn)略需求,研發(fā)了高端化學(xué)品及集成電路用電子化學(xué)品制造關(guān)鍵技術(shù),并成功實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用,成為科技創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新深度融合的典型案例。

    據(jù)介紹,該項(xiàng)目在多個領(lǐng)域取得了一系列重大創(chuàng)新成果。根據(jù)鑒定意見,該項(xiàng)目建立了精餾塔內(nèi)氣液兩相流的數(shù)學(xué)模型,研發(fā)了IP型高效填料和導(dǎo)向復(fù)合塔板,填料分離效率提高了37.5%~50%,塔板分離效率達(dá)到75%~85%;發(fā)明了反應(yīng)除雜技術(shù),利用紫外線光源將四氯化硅中極少量的三氯氫硅反應(yīng)為四氯化硅,產(chǎn)品純度達(dá)到99.9999999%(9N級);開發(fā)了等離子反應(yīng)合成技術(shù),實(shí)現(xiàn)乙硅烷的定向合成,得到99.99999%(7N級)乙硅烷。

    同時,該項(xiàng)目發(fā)明了精餾—連續(xù)多級逆流分布結(jié)晶技術(shù),應(yīng)用于對二氯苯-鄰二氯苯等分離,產(chǎn)品純度≥99.999%;開發(fā)了優(yōu)化結(jié)構(gòu)的雙載體吸附系統(tǒng),與精餾及其他分離技術(shù)耦合,實(shí)現(xiàn)對雜質(zhì)的深度脫除,生產(chǎn)出99.999999%(8N級)四氯硅烷;開發(fā)了高效抗雜質(zhì)滲入技術(shù),實(shí)現(xiàn)了電子化學(xué)品生產(chǎn)設(shè)備的超潔凈防護(hù)。其中,電子級氫氟酸單個金屬離子雜質(zhì)含量降至5ppt以下,突破G5標(biāo)準(zhǔn)要求。

    據(jù)了解,該項(xiàng)目不僅在科技創(chuàng)新方面屢獲突破,在產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用領(lǐng)域也收獲累累碩果。項(xiàng)目成果已在多家企業(yè)獲得廣泛應(yīng)用,并生產(chǎn)出百余種產(chǎn)品,取得了顯著的經(jīng)濟(jì)效益、社會效益和環(huán)境效益。

    來源:中國化工報


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